«Это пока скромные параметры — 130 нм, к чему мы идем в ближайшие годы... По каким-то элементам мы уже и в следующем году будем иметь возможность оснащать наши предприятия 90 нм и двигаться дальше: 65, 45 38 и дальше»
// industry-hunter.com
В следующем году Минпромторг рассчитывает получить отечественный литограф для изготовления микросхем по технологии 350 нанометров, а к 2026 году – опытный образец литографа для микросхем 130 нанометров
Это пока скромные параметры — 130 нанометров, к чему мы идем в ближайшие годы. Но если мы говорим в комплексе 130 нанометров — это полностью завод под ключ. По каким-то элементам мы уже и в следующем году будем иметь возможность оснащать наши предприятия 90 нанометров и двигаться дальше: 65, 45 и дальше, — сказал Мантуров.
К 2030 году планируется заместить около 70% всего оборудования и материалов, используемых в базовых технологических процессах. Параллельно Россия должна занять такую же долю на рынке конечной продукции и практически полностью удовлетворить потребности государственного сектора, сказал Мантуров.
В 2024 году государство выделит на поддержку отрасли микроэлектроники 210 миллиардов рублей, в 2023 году из бюджета на это было направлено уже 147 миллиардов рублей, отметил вице-премьер.
По его словам, поддержка прежде всего «нацелена на создание широкой линейки программно-аппаратных решений для всех сфер применения». За девять месяцев нынешнего года реестр электронной продукции пополнился более чем на 70%, сообщил он.
Технология изготовления микросхем различается по размеру логических элементов схемы, которые способен обеспечить литограф. Чем этот размер меньше, тем выше производительность и ниже энергопотребление. В настоящее время передовые фабрики выпускают чипы по технологии семь и менее нанометров, но и 350-нанометровые кристаллы способны обеспечить технологическую независимость в критически важных областях, в частности, в оборонной промышленности.